大家好，今天小编关注到一个比较有意思的话题，就是关于中方反制三家美企的问题，于是小编就整理了2个相关介绍中方反制三家美企的解答，让我们一起看看吧。
光刻机断供，光刻胶断供，半导体国产替代能不能打？
光刻机7um以下暂时对我们是短板。米限制的是3um及以下芯片，对华为等损失较大。目前世界上用途最广，用量最大的是14um及以上产品，7um上已攻破，也只是产能问题。米国在14um上因长期放弃生产，这方面是短板，世界上我们产能占优势。14um芯片在军工、卫星、导弹及汽车等上先进，夠用。老米都得进口中国的。
中国湿刻机是世界最先进的。台积电在用。
光刻胶已研究成功几年，只是量产未全跟上，部分还得从日韩进口。卡不到我们。芯片设计、封装中国不落后。
芯片生产路綫不只荷兰，台积电那一种，国内正集中各研究单位与相关大专院校攻关，希望的暑光不久将显现。
我们也有反制措施，商务部公佈稀土金属对美断供，F35一架用稀土量很大，美有稀土资源，但高含量少，生产提练技朮还得求中国，要攻克此技朮，5一10年再说。另，环保对美困挠也大。美在我们宣佈反制后，虽然可从其盟友转购，美除成本增加外，我们还有办法让老米难受。
以上内容可从国内各主流媒体“科技栏”查到。
中国人能做好的洽洽是被西方封锁的东西。中国半导体在六、七十年代是不错的，正是因为依赖了西方产品而逐渐落后了。只我们坚定信心，持之以恒搞研发，我相信，在不久的将来，中国半导体产业一定能赶上并超越西方国家。
能。肯定能。光刻机，光刻胶这些都能够克服。只是时间长短的问题。问题是肯定能够解决的。
光刻机作为芯片产业的核心装备，有人称它为“人类最精密复杂的机器”。同时，光刻机也被称为半导体工业皇冠上的明珠。光刻机产业链主要包括上游设备及材料、中游光刻机生产及下游光刻机应用三大环节。光刻机技术极为复杂，在所有半导体制造设备中技术含量最高。主要涉及系统集成、精密光学、精密运动、精密物料传输、高精度微环境控制等多项先进技术，生产一台光刻机往往涉及到上千家供应商。
目前，光刻机市场竞争格局明确，主要由阿斯麦、日本尼康和佳能三家把持，其中阿斯麦更是全球绝对龙头，市占率83.3%，几乎垄断了高端光刻机（EUV）市场。日本尼康和佳能产品主要为中低端机型。国产光刻机领域中，上海微电子一枝独秀。国产光刻机市场前景广阔，同时，为了避免在芯片产能爬坡时被外界的设备供应“卡脖子”，国产光刻机正在逐步突破。近年来，我国科技取得了巨大突破，五年内有望解决高端芯片短缺问题。
现代社会离不开芯片的支持，任何的智能终端产品都需要搭载芯片，而光刻机就是制造芯片的重要工具。在芯片制造过程中，需要将设计好的芯片图案复刻在晶圆表面，但即便是28nm，14nm的成熟芯片也会集成几十亿根晶体管。如何在有限的单位面积内曝光更多的晶体管数量，让每根晶体管纵横交错，甚至在上百个层级中错落有致，这就需要光刻机运用深紫外或极紫外光源来实现了。以EUV光刻机为例，波长为13.5nm，运用多重曝光可以轻松完成7nm及以下的高端芯片制造。只不过目前只有荷兰ASML一家公司掌握EUV光刻机量产技术，也是许多国家争相突破和发展的目标。
“10nm”“7nm”“5nm”这些词大家想必都不陌生。2018年，中微半导体成功研制7nm的刻蚀机，这是国产造芯的一大进步。（但是成功研制刻蚀机并不代表我们就有能够制造7nm制程的芯片的实力，原因后面会讲到。）这些数字指的是什么？为什么我们需要所谓7nm的光刻机呢？
芯片界有一个著名的定律——摩尔定律，即集成电路上可以容纳的晶体管数目大约每24个月增加一倍，当然对应的理论性能也能增加一倍。但如何在同样尺寸的芯片上增加晶体管数量呢？当然就是把晶体管做小，提高晶体管密度。
“7nm”中的数字最初指的就是晶体管中的沟道长度，它也是区分半导体加工技术换代的重要标志（当然现在的命名更多的是代表技术迭代，其实是要长于7nm的）。想把晶体管越做越小，自然需要更精密的刻刀——光刻机，所谓7nm光刻机就是光刻机能刻蚀的最大分辨率。
除了光学设计部分的难题，一台光刻机需要实现的还有大量挑战极限的事情。比如镜片吸收光会产生热量，因而要对系统进行冷却，那如何解决过程中的振动导致精度问题呢?高分辨率的光刻自然需要高分辨率的光刻胶，如何制备呢？锡微流体如何精确控制大小与流速？整个体系如何确保高精密的机械控制？如何保证整体的可靠性呢？这一切问题都需要系统中任一部分完美配合才能达到，因此EUV光刻机要比你想象的大——大约一辆公共汽车那么大。整个机器包含10万个部件和2公里长的电缆。每台机器发货需要40个集装箱、3架货机或者20辆卡车。
而且，要制造芯片仅有一台光刻机可不够，它的工作环境非常挑剔。首先光刻需要的房间全部为纯净的黄光，因为短波长的光会造成光刻胶变性，无法实现功能。因此黄光对于光刻，就像暗房对于胶片一样。此外，光刻所需的无尘环境要求每立方米的空气中不能有超过10个颗粒，并且颗粒大小小于0.5微米，每小时要净化30万立方米的空气。厂房对地基要求也很严格，不能有任何微小的振动，因而某种意义上讲厂房需要类似“悬浮”。光刻需要的电能也达到非常恐怖的量级，一台EUV工作24小时，耗电量达到3万度。这就是为什么我们拥有了7nm的刻蚀能力，也不等于能够制造7nm的芯片。毫不夸张地说，光刻机是在挑战人类文明的极限，是人类工艺的巅峰之作。
02光 刻 胶
光刻胶又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料，在半导体工业、PCB、平板显示等领域得到广泛应用。目前，全球缺芯背景下晶圆厂产能扩张正逐步迎来落地，半导体光刻胶市场需求稳步向上。光刻胶同样是半导体行业的关键技术之一，属于原材料的一种，而且和光刻机的联系非常密切。光刻胶作为一种光敏化学材料，需要涂抹在晶圆表面，用于保护衬底基座，并且在接收光刻机的曝光光源时承担媒介的作用，将芯片图案转移到晶圆上。
我国光刻胶产业链中，上游主要为原材料及设备，包括树脂、溶剂、单体、光引发剂、生产设备以及检测设备等；中游为光刻胶，主要包括PCB光刻胶、面板光刻胶、半导体光刻胶；下游为应用领域，光刻胶广泛应用于PCB、半导体、面板显示、芯片等。目前，光刻胶生产制造主要被日本JSR、东京应化、信越化学、住友化学等制造商所垄断，尤其在高分辨率的KrF和ArF光刻胶领域，其核心技术基本由美国和日本制造商所掌握。中国本土企业在光刻胶市场的份额较低，与国外光刻胶制造商仍存在差距。数据显示，东京应化市场占比最大达27%，杜邦、JSR、住友化学市场占比分别为17%、13%、13%。
谢头条平台邀请！我觉得科技新产品新技术新材料也并非天生就存在的，别人也是不一断努力奋斗开发钻研反复试验创造出来的，别人既然可以自己努力奋斗而来，难道我们自己就不能也自己搞出来吗？我想回答应该是肯定的，只不过是时间的早晚和过程的曲折程度不同的问题。顺利赶超也并非不可能嘛！
以我看国产替代必须在近几年实现，因为国家把研制高科技技术方面的投资列为头等大事，每年投资几千亿，从祖国的高科技产业链国产化之后，外国的芯片等公司都得破产，因为中国的芯片产业能白菜价出售，国外的就不能，因为他们成本太高。
美国和法国撕破脸皮，特朗普会“稳如泰山”？
美国法国撕破脸皮打起来，特朗普一定会绷住，他不会马上发推特暴跳如雷，一定会稳如泰山。因为这些数字税的征收对象是互联网企业，可以说和他不太对付。
进入网络经济时代，美国全面领先世界。美国的资本和科技助推网络企业横扫全球。
法国征收数字税的正式名称为“GAFA税”，名称取自谷歌(Google)、苹果公司(Apple)、脸书(Facebook)和亚马逊(Amazon)的首个英文字母。
这些公司无一不是称霸全球，在各个国家的营收，应该说都能排的上号。利润之丰厚，可以说惹人眼馋一点不奇怪，被法国征收数字税一点也不出意料，因为这是早晚的事。这些大企业都采取各种避税手段，法国没有获得相应的收入。法国没有大型的互联网企业，数字经济的迅速发展没有为法国带来相应的财政收入。这就是法国征收数字税的缘由。
特朗普的经济主张是逆全球化的，硅谷企业一向不喜特朗普。特别是世界首富亚马逊总裁贝佐斯和特朗普，那简直就是仇人，两人相互看不对眼。所以特朗普开始肯定会绷住了，等这些个大佬们求上门来，开出一些个有利条件，再对付法国也不迟。
特朗普对于本国企业那是不余遗力。他怎么会让自己的小弟们从自己身上割肉，只是现在在竞选期间，要获得一些好处，先磨一磨这些不听话的巨头们。如果法国开始征税，等于开了头，那世界各国肯定也会跟进。这对于美国互联网企业无异于晴天霹雳。所以特朗普绝不会让法国征税成功。一定会采取反制措施。况且特朗普为争取连任，还要争取这些互联网企业的配合和支持。
美国法国虽然是同盟，在利益面前，谁也不会让着谁。特朗普为了自己的竞选利益开始也会稳如泰山，最终他会替美国企业出头。
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到此，以上就是小编对于中方反制三家美企的问题就介绍到这了，希望介绍关于中方反制三家美企的2点解答对大家有用。
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